最新型号采用高效的双流体喷嘴汽化器结构，扩大了汽化室，改进了汽化出口，以减少未汽化材料的排放。
与 VU-450 相比，通过增加汽化室体积，可以改善对流时间和换热面积，从而实现高流量汽化。
通过增加与气体出口的距离，可以抑制雾（未汽化的气体）的排放。
适用于低蒸汽压、高流速的汽化供应应用，包括低介电常数材料、高介电常数材料和各种金属。
由于它是一款集成阀门的汽化器，因此与LM-3000L配合使用时，可以直接在汽化器处控制液体流量。可实现高度灵敏的汽化流量控制。
特征
- 高效汽化
- 可维护性
- 阀门邻近
- 增加出风口加热距离
使用示例
半导体材料的气相沉积（CVD、ALD）
通过扩大汽化室，从中央双流体喷嘴喷出的雾滴扩散范围比VU-450更广。通过增加加热器功率（W），可以实现使用TEOS时30g/min和使用H2O时5g/min的稳定高流量汽化。
规格
| 最高温度 | 载气流量 | 水汽化量 | TEOS汽化速率 | 密封剂 |
| 200℃ | 0.8~130 SLM | 5克/分钟 | 30克/分钟 | 奥卡雷茨 |
