与传统系统相比，JBX-8100FS 点型电子束光刻系统通过最大限度地减少操作和光刻过程中的浪费时间来提高吞吐量，同时还实现了节省空间和低功耗。

特征
节省空间
标准占地面积为 4.9 米（宽）× 3.7 米（深）× 2.6 米（高），比之前的型号更加节省空间。

低功耗
正常情况下，功耗约为 3kVA，约为先前型号的三分之一。

高吞吐量
它具备两种模式：高分辨率绘图模式和高速绘图模式，能够胜任从超精细加工到中小批量生产的各种应用。此外，它还能减少绘图过程中的不必要时间，并实现125MHz（世界一流）的高速扫描，速度比传统机型快1.25到2.5倍。

版本
JBX-8100FS共有三个版本：G1（入门级型号）、G2（全配置型号）和G3（200 kV型号）。G1
型号安装后可添加选配件。

新功能
该设备可配备光学显微镜（可选），无需将光刻胶暴露于光线下即可观察材料上的图案。此外，标配信号塔，用于直观地监控设备的运行状态。

激光定位分辨率
默认情况下，平台位置以 0.6 nm 为单位进行测量和控制，但也可以以 0.15 nm 为单位进行控制（可选）。

设备控制
它运行于 Linux® 系统之上，并拥有用户友好的图形界面，即使是初学者也能轻松上手。此外，该数据准备程序同时兼容 Linux® 和 Windows® 系统。


隆重推出 200 kV 型号！

进入最高加速电压达 200 kV 的世界
JBX-8100FS是一款点束光刻系统，专为满足各种高速、高精度应用而开发。其
可升级平台使其能够应用于从尖端纳米结构制造到化合物半导体器件制造等多个领域。

适用于厚膜光刻胶的三维加工。
下图显示了加速电压分别为 100 kV 和 200 kV 时的加工数据对比。
在 200 kV 的加速电压下进行加工可以减少锥度，并提高较厚光刻胶膜样品的垂直度。

100 kV 和 200 kV 加速电压的比较（样品：10 μm 厚薄膜光刻胶）