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山金原厂 JEOL日本电子 JBX-3200MVS 电子束光刻系统

山金原厂 JEOL日本电子 JBX-3200MVS 电子束光刻系统

这是一款用于制造32nm至28nm工艺节点掩模和光罩的可变形状电子束光刻系统。
它采用尖端技术，实现了高速、高精度和高可靠性。
该系统基于50kV加速电压的可变形状电子束和步进重复平台系统。

特征
通过利用步进重复绘制方法的优势，并将其与绘制剂量调制和叠加绘制等功能相结合，它可以处理传统掩模/光罩图案所需的各种校正。

执行记录
国内外的专营口罩店和零售商口罩店。

规格和选项
连接准确性 ≤±3.5nm
叠加精度 ≤±5nm
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  • 详细介绍

这是一款用于制造32nm至28nm工艺节点掩模和光罩的可变形状电子束光刻系统。
它采用尖端技术，实现了高速、高精度和高可靠性。
该系统基于50kV加速电压的可变形状电子束和步进重复平台系统。

特征

通过利用步进重复绘制方法的优势，并将其与绘制剂量调制和叠加绘制等功能相结合，它可以处理传统掩模/光罩图案所需的各种校正。

执行记录

国内外的专营口罩店和零售商口罩店。

规格和选项

连接准确性 ≤±3.5nm
叠加精度 ≤±5nm
本文网址 ： https://www.yamakin-cn.com/product/11279.html
标签 ： 山金原厂 JEOL日本电子 JBX-3200MVS 电子束光刻系统

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