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山金进口 JEOL日本电子 JBX-3050MV/S 电子束光刻系统

这是一套用于制造最大45nm节点掩模和光罩的可变形状电子束光刻系统。
它采用尖端技术,实现了高速、高精度和高可靠性。
该系统基于50kV加速电压的可变形状电子束和步进重复平台系统。

特征
通过利用步进重复绘制方法的优势,并将其与绘制剂量调制和叠加绘制等功能相结合,它可以处理传统掩模/光罩图案所需的各种校正。

执行记录
国内外的专营口罩店和零售商口罩店。

规格和选项
连接准确性 ≤±3.8nm
叠加精度 ≤±7nm
  • 详细介绍

这是一套用于制造最大45nm节点掩模和光罩的可变形状电子束光刻系统。
它采用尖端技术,实现了高速、高精度和高可靠性。
该系统基于50kV加速电压的可变形状电子束和步进重复平台系统。

特征

通过利用步进重复绘制方法的优势,并将其与绘制剂量调制和叠加绘制等功能相结合,它可以处理传统掩模/光罩图案所需的各种校正。

执行记录

国内外的专营口罩店和零售商口罩店。

规格和选项

连接准确性 ≤±3.8nm
叠加精度 ≤±7nm
本文网址 : https://www.yamakin-cn.com/product/11280.html

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