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山金全新 JEOL日本电子 SB-89010EUVC 准分子紫外线清洗机

特征
兼容150mm晶圆

在涂覆光刻胶之前,请清洁材料表面。

去除材料表面的有机物。

提高材料与光刻胶之间的粘合力(*并非所有情况下都能保证提高)

由于处于真空环境,臭氧生成量极小。
臭氧生成速率:0.0012 mg/min。
设备周围臭氧浓度:0.01 ppm。




准分子紫外线清洗机利用氙 (Xe) 激发二聚体(准分子)发射的波长为 172 nm 的紫外线,去除晶圆表面的有机化合物污渍。


清除抵抗力残留物
蚀刻前进行清洗可以去除晶圆表面的残留光刻胶。


清洁前



正性光刻胶,厚度400nm

清洁后



照射20分钟


有关使用准分子紫外线清洗机进行样品清洗/亲水化处理的机理信息,
  • 详细介绍

规格和选项

紫外线照射 波长 172 纳米
最大样本量 152.4 毫米(宽)× 154.2 毫米(深)× 60 毫米(高)
最大样品质量 1公斤
照射时间设置 10秒到99分钟
真空泵 隔膜式干式真空泵
安装条件 电源 单相 90-110 伏,50/60 赫兹,500 伏安
尺寸和重量
(不含电缆和真空管道)
主机 尺寸:43厘米(宽)× 44厘米(深)× 31厘米(高),重量:约22公斤
真空泵
尺寸:17厘米(宽)× 33厘米(深)× 22厘米(高),约8公斤
室温 15至30摄氏度
湿度 相对湿度60%或更低(无冷凝)
定期更换部件(累计辐照1000小时后更换) 紫外线灯、真空计、O型圈等。
本文网址 : https://www.yamakin-cn.com/product/11281.html

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