该等离子体源安装在真空腔内，可产生高密度等离子体。结合真空沉积技术，等离子体辅助沉积（离子镀）能够改善光学薄膜、保护膜和功能膜的性能，并且对基底清洗和表面改性也十分有效。

特征
该系统利用低电压、高电流、高密度直流等离子体高效电离气体分子和蒸发粒子，
实现反应沉积，尤其在加速氧化方面效果显著。
由于高密度等离子体扩散至整个腔室，因此可在较大面积上实现高速薄膜沉积。
与法兰式系统不同，该装置内置于腔室中，并可调节光束照射角度，使其适用于各种真空系统布局。
此外，它还可以改装到现有的真空腔室中。

应用示例
等离子体辅助沉积（离子镀）

蒸发粒子被高密度等离子体激发和电离，活化的高能粒子被加速到基底上，形成具有高附着力的致密薄膜。

等离子体反应沉积

打扫

去除基材和薄膜表面的油污、油脂和灰尘。

表面改性

基材表面的氧化、氮化和活化处理

等离子体辅助薄膜沉积的影响
提高薄膜密度和折射率

提高环境抵抗能力

波长偏移减小

低吸收膜（促进氧化）

增强粘合力

表面光滑度提高

膜应力控制

应用示例
这些是采用内置等离子枪（BS-80011BPG）的等离子体辅助蒸发法沉积的光学薄膜（介电多层膜）的示例。
与真空沉积薄膜相比，其波长偏移和薄膜密度均得到显著改善。