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供应 SEN日森 SSP2003N 台式光催化清洗和改性装置

表面处理设备台式光催化清洗和改性装置

姓名台式表面处理设备
模型 SSP16-110D
概述利用波长为 185nm 和 254nm 的光能去除纳米级有机污染物。
目的 - 改善树脂表面的润湿性
- 提高粘合剂、油漆和涂料对树脂材料的附着力
- 各种基材的预处理
- 金属和玻璃表面的清洁和改性
- 光刻胶的光灰化和电镀预处理
特征 • 便于进行紫外线处理。
• 照射尺寸为 160 x 160 毫米，不仅可用于科研，还可用作小型生产设备。

所属分类：
SEN日森
发布时间： 2026-09-28

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详细介绍

阵容

设置类型	照度	照射区域	照射距离	兼容电源	配件
SSP16-110D	15 mW/cm²	160 x 160 毫米	0-75毫米	UE1101N-26	鼓风机、风门、φ75mm 和 φ50mm 风管（各 2 米，各 1 根）
SSP17-110A	15 mW/cm²	160 x 160 毫米	20-75毫米	UE1101N-26	鼓风机、风门、φ75mm 和 φ50mm 风管（各 2 米，各 1 根）
SSP2003N	16 mW/cm²	350 x 320 毫米	5-150毫米	UVE-200-3D(A)	鼓风机、风门、φ75mm 和 φ50mm 风管（各 5 米，各 1 根）