GF100
使用MultiFlo ™技术选择和更改气体类型和全量程流量范围。
用户友好的界面诊断和服务端口
采用耐腐蚀的哈氏合金T-Rise传感器，实现长期稳定的性能。
实现超快的 300ms 稳定时间 (GF125/GF135)
SDS（​​安全输送系统）、HA（高精度）选项
由于采用了 PTI（压力瞬态感应）功能，因此具有优异的压力波动抵抗能力（GF125/GF135）
无需维护，无机械运动部件。
配备实时气体流量异常诊断和检测功能（GF135）
我们还可以根据客户要求提供管道延长件和连接配件。
目的
用于最先进的半导体制造工艺的蚀刻机、CVD 和扩散炉。
尖端化合物半导体MO-CVD
OEM/ MultiFlo ™对各种气体类型和流量的支持
　减少了使用的气体管线数量和备件库存。
通过PTI功能实现气体系统的微型化和轻量化
气体流动异常诊断和检测功能可实现关键工艺气体的长期稳定流量控制。