在半导体和液晶显示器制造设备中,暴露于等离子体环境中的氟橡胶(FKM)密封件存在寿命和颗粒生成问题,而氟化氟橡胶(FFKM)密封件价格过高且性能较差。目标设备: Blazer O型环-FC:等离子体化学气相沉积(CVD)设备
评估条件设备:表面波等离子刻蚀系统样品形状:AS568B-214气体类型:O2 (2000 sccm) + CF4 (40 sccm)压力:133 Pa输出功率:2000 W曝光时间:2.0 小时延伸率:5%
评估条件设备:表面波等离子刻蚀系统样品形状:AS568B-214气体类型:O₂ (2000 sccm) + CF₄ (40 sccm)压力:133 Pa输出功率:2000 W曝光时间:2.0 小时延伸率:5%目视观察:前 20 分钟每 5 分钟观察一次,之后至 120 分钟每 10 分钟观察一次