OHKURA大仓 化学清洗装置 SP4200C3110该装置采用化学方法去除pH电极上积聚的水垢，专为超声波清洗或水射流清洗无效的场合而开发。它实现了以往手动进行的化学清洗的完全自动化，包括定期注入化学药剂、通过鼓泡进行清洗以及化学药剂的回收。尤其适用于测量烟气脱硫设备的pH值。该装置由控制面板、清洗装置（含电极支架）、化学药剂罐和保持放大器（选配）组成。
特征
■控制面板
包含确定测量和清洗周期的顺序电路和电磁阀。
■化学槽
由槽体、支架、电磁阀等组成。
■清洗装置
根据控制面板的信号，电极支架上升，在电极附近形成空间，以便注入和回收化学溶液。
■滞留装置（可选）
该装置在整个清洗过程中保持清洗前的pH值，并根据控制面板的信号维持pH值。
