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进口 accretech 东京精密 适用于 200 毫米晶圆化学机械抛光 ChaMP232

进口 accretech 东京精密 适用于 200 毫米晶圆化学机械抛光 ChaMP232

Φ200毫米
Φ150毫米
Φ100毫米
适用于 200 毫米晶圆的 CMP 系统，不仅完全满足先进器件所需的工艺性能，还能满足大规模生产工厂的需求。
ChaMP 232
Accretech 融合了所获得的精密测量仪器和半导体制造设备技术，完全满足先进器件所需的工艺性能，并针对批量生产工厂的需求，推出了适用于 200 毫米晶圆的 CMP 系统（ChaMP 系列）。
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特征
气浮头“仙女”


参考抛光是通过气垫实现的，气垫可提供均匀的压力分布。
晶圆压力由独立于环压的气囊施加，从而提供出色的低压可控性和稳定性。
可进行区域控制。


抛光头的简易维护 - 更换活塞环
拆卸（约 5 秒）


安装（约10秒）
1.
双手握住卡环，将卡簧推入托架。稍微旋转卡簧，使定位框滑入的端面对齐。
2.
将卡环套在整个圆周上，然后向下滑动盖子。
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顶部解决方案/产品半导体制造设备半导体制造设备CMP

 

本文网址 ： https://www.yamakin-cn.com/product/6335.html
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