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货存 TAISEI大成技研 TU-KN500W 通用工业用气态粉末清除设备

主要用途:通用;
元件类型:HL;
连接直径:NW40;
尺寸:直径210毫米 x 高390毫米;
重量:13公斤
TRAPACK‌ 是一类专用于工业气体处理中的‌气态粉末清除设备‌,尤其在泛半导体、FPD(平板显示)、光伏、LED等高精尖制造领域广泛应用。它通过高效捕集工艺过程中产生的微细粉尘颗粒(如金属氧化物、氟化物副产物等),保护下游真空泵、减少设备宕机时间,并提升整体工艺稳定性。

🔍 TRAPACK设备核心功能与优势
TRAPACK系列设备(如TAISEI TRAPACK TU-1500/J)主要针对‌反应腔体排气流中的亚微米级粉尘‌进行拦截,其技术特点包括:

‌高效捕集能力‌:可去除 ‌1μm以下的超细粉尘‌,显著降低干泵磨损与卡顿风险
‌低压力损失‌:系统压降极小,不影响原有真空系统运行效率
‌多模式处理机制‌:支持水冷、风冷、热蒸发、离心力、吸附剂等多种粉尘处理方式
‌延长设备寿命‌:有效防止粉尘回流污染主工艺腔室,延长干泵维护周期
‌适用工艺广泛‌:涵盖CVD、蚀刻(Etching)、ALD、金属沉积(W-CVD)、BPSG、氮化物生成等
  • 详细介绍

 


大成技研株式会社的“气体粉末去除”系统主要用于去除半导体和液晶显示器制造设备(离子注入、化学气相沉积、刻蚀等)排放的气体反应产物(细粉)。
该系统尤其能够完全阻隔离子注入和化学气相沉积设备排放的粒径小于1μm的反应产物,其采用涡流旋流吸附和高性能磁性元件。该系统元件几乎没有压力损失,可在真空泵前后使用,是一款突破性的粉末捕集器,能够轻松处理现有过滤器无法去除的细粉。该系统可显著减少维护时间并提高生产效率。


Trapack是什么?


TRAPAC 是一种粉末去除捕集器,用于去除半导体和液晶显示器 (LCD) 制造设备废气中的反应产物(细粉)。它有三种结构类型:涡流旋流吸附型、磁性元件型(TRAPAC 元件)以及结合了两者特性的组合型。其中,组合型能够完全阻隔蚀刻和化学气相沉积 (CVD) 设备排放的亚微米级细粉。


系统配置(真空泵前的安装)

 

 

实施效果

 


废气管道清洗

 


减少前向阀的维护


预防真空泵故障

 

生产力提升


前线维护成本降低

 

 

 

 

作品

 

 

系统配置(真空泵下游安装)

 

 

实施效果

 


废气管道清洗

 


预防真空泵故障


降低废气排放设备的负荷

 

生产力提升


减少排气管维护

 

 

 

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