| 行业 | 应用工艺 | 清除目标 |
|---|---|---|
| 半导体制造 | CVD, Metal-Etch, Ion Implantation | SiO₂、W、TiN等反应副产物粉尘 |
| 液晶显示器(LCD/AMOLED) | Tin-CVD, Nitride Deposition | 锡基、氮化物微粒 |
| 光伏(Solar) | 多晶硅沉积、刻蚀 | 硅粉、氟化钙颗粒 |
| LED生产 | MOCVD外延生长 | 金属有机物残留颗粒 |
System Trap(系统级捕粉器)
安装于主工艺腔与真空泵之间,全面拦截高浓度反应粉尘,适用于高价值产线防护。
Foreline Trap(前级管线捕粉器)
部署在干泵入口前段管路中,重点保护泵体,成本较低,适合改造项目加装
带加热套与涂层管道设计
防止腐蚀性气体冷凝,减少堵塞风险,同时降低加热套和管道维护成本
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