‌TRAPACK‌ 是专为工业气体净化设计的‌气态粉末清除装置‌，广泛应用于半导体、液晶显示、光伏及LED制造等高精尖领域。它能高效捕集工艺废气中的亚微米级反应副产物粉尘（如SiO₂、W、TiN等），保护真空泵系统、减少设备维护频率，并提升产线运行稳定性 。

核心类型与工作原理

TRAPACK设备根据结构与处理机制的不同，主要分为以下三类：

1. ‌涡流旋流吸附型（Uzu型）‌

• ‌原理‌：利用螺旋形涡流元件产生高速旋转气流，通过离心力将粉尘甩向壁面并捕集
• ‌特点‌：
  • 几乎无压力损失
  • 适用于CVD、蚀刻等高流量排气工况
  • 可处理 ‌1μm以下超细粉尘‌
• ‌代表型号‌：TU-50LM / LMJ（ASD-50 涡流型）
  • 连接尺寸：NW40、NW50
  • 尺寸：□370mm x H707mm
  • 重量：53kg / 68kg

2. ‌磁性元件型（Trapac Element）‌

• ‌原理‌：采用高性能磁性材料吸附带电或铁磁性粉尘颗粒
• ‌特点‌：
  • 单元密度低、网格空隙大，气阻小
  • 粉尘分层沉积于元件表面和内部，易于清理
  • 适合离子注入等产生金属微粒的工艺
• ‌代表型号‌：TU-KN系列（如TU-KN100、TU-KN200）

3. ‌组合型（复合式）‌

• ‌原理‌：集成涡流+磁性双重捕集机制，实现多级过滤
• ‌优势‌：
  • 对蚀刻与CVD设备排放的混合粉尘具有‌更高去除效率‌
  • 可应对复杂成分废气（如氟化钙、硅粉共存）
  • 显著延长下游真空泵寿命