触摸屏式，兼容Φ12英寸真空和工艺气体
高速退火加热系统，型号VPO-1000-300
除了原型开发应用外，该新模型还可以集成到在线系统中，并能承受高达 2000 hPa (= 0.2 MPa) 的过压。 与N2、H2和甲酸、真空回流退火工艺以及LTO烧结兼容！

该设备在加热区域的顶部和底部均配备了红外（IR）加热器，最高温度可达1000℃，最大升温速率为40K/s。采用氮气吹扫冷却方式，最大降温速率可达200​​K/min。触摸
屏用于程序控制。除了可以创建温度控制、气体流量（MFC）和真空控制的程序外，还可以保存工艺数据。该设备可加热尺寸最大为300x300mm或Φ300mm的物体，例如
采用硅片键合技术的玻璃基硅太阳能电池。

这是一个台式真空工艺高速加热炉，最高温度可达 1000°C（可选配最高温度 1200°C）。
我们支持氮气吹扫、氧气吹扫和泡沫气体（氢气+氮气）吹扫。
由于工作区域有气体保护，因此可用于对污染有要求的工艺流程或其他关键工艺流程。
由于顶部和底部有 36 个红外加热器进行加热，因此可以实现精确快速的加热。
与合适的真空泵配合使用，可实现高达 0.1 Pa (10⁻³ hPa) 的真空环境（使用 HV 选项可实现高达 10⁻⁶ hPa）。
支持采用氮气吹扫进行冷却。
标配触摸屏显示器，操作简便。
该设备最多可注册 50 个温度控制程序，每个程序有 50 个段（行）。
它可以与装卸机、机器人等组合，集成到生产线中。